Taizhou Icon Precision Technology Co.,Ltd

El principio de funcionamiento de la máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica de magnetrón de la serie CJ, el llamado "sputtering" es bombardear el objeto con partículas cargadas (generalmente iones positivos de gas), causando así el fenómeno de que los átomos en la superficie del objeto escapan del cuerpo padre. Grove descubrió este fenómeno en su laboratorio ya en 1842. El objetivo de pulverización catódica de magnetrón adopta un campo electromagnético estacionario, el campo magnético es curvo y el campo eléctrico uniforme y el campo eléctrico logarítmico se utilizan para objetivos planos y objetivos cilíndricos coaxiales, respectivamente. Bajo la acción de un campo eléctrico, los electrones chocan con los átomos de argón en el proceso de acelerar su vuelo hacia el sustrato. Si el electrón tiene suficiente energía (aproximadamente 30ev), ioniza Ar + y genera electrones, los electrones vuelan al sustrato y Ar + acelera al cátodo (objetivo de pulverización catódica) bajo la acción del campo eléctrico y bombardea la superficie objetivo con alta energía, haciendo que el objetivo chisporrotea.

Ámbito de aplicación:
Ampliamente utilizado en electrodomésticos, relojes, cabezas de golf, artes y manualidades, juguetes, reflectores de lámparas, carcasas e instrumentación de botones de teléfonos móviles, plásticos, vidrio, cerámica, azulejos y otros recubrimientos decorativos de superficie y recubrimientos funcionales de moldes, en el revestimiento de películas ultra negras, películas decorativas de oro puro, películas conductoras y otros campos tienen ventajas.

Características del producto:
1) Buena capacidad de control y repetibilidad del espesor de la película. Puede placar películas de manera confiable de un espesor predeterminado, y los recubrimientos de pulverización catódica pueden obtener una capa de espesor uniforme en una superficie más grande;
2) Fuerte adhesión entre la película y el sustrato. Algunos átomos pulverizadores de alta energía producen diferentes grados de fenómeno de inyección, formando una capa de pseudodifusión en el sustrato en la que los átomos pulverizados y los átomos de sustrato se fusionan entre sí;
3) Para la preparación de películas de materiales especiales, películas mixtas, las películas químicas compuestas se pueden preparar por pulverización catódica de diferentes materiales al mismo tiempo, y también se pueden pulverizar en película de oro de imitación TiN;
4) La pureza de la capa de película es alta, y la capa de película de pulverización catódica no se mezclará con los componentes del material del calentador del crisol.
5) Equipado con fuente auxiliar de iones de baja temperatura, recubrimiento frío directo a temperatura ambiente sin calefacción, ahorro de energía y aumento de la capacidad de producción.